三、材料與化學品
Photoresist(光刻膠)——正膠(Positive)/負膠(Negative)
Reticle/Mask(掩模版)——光刻用模板
Silicon Wafer(硅片)——常用尺寸:6英寸、12英寸
Die(芯片)——切割后的單個晶片
Argon(Ar,氬氣)/Nitrogen(N2,氮氣)——工藝氣體
四、質量控制與檢測
Yield(良率)——合格芯片比例
Defect(缺陷)——影響良率的異常點
Critical Dimension(CD,關鍵尺寸)——圖形的最小線寬
五、職位與部門
Process Engineer(工藝工程師)——優化制造流程
Equipment Engineer(設備工程師)——維護生產設備
Quality Engineer(質量工程師)——確保產品符合標準
R&D Engineer(研發工程師)——新技術開發
Technician(技術員)——設備操作與維護
六、行業術語與縮略語
CMOA——互補金屬氧化物半導體
FinFET——鰭式場效應晶體管
ASIC——專用集成電路
DRAM——動態隨機存取存儲器
FMEA——故障模式與影響分析
OEE(Overall Equipment Effectiveness)——設備綜合效率