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光刻膠用的時(shí)候需要稀釋嗎？
光刻膠在未曝光之前是一種黏性流體，不同種類的光刻膠具有不同的黏度。黏度是光刻膠的一項(xiàng)重要指標(biāo)。那么光刻膠的黏度為什么重要？黏度用什么表征？哪些光刻膠算高黏度，哪些算低黏度呢？黏度對(duì)工藝的影響有哪些？光刻膠何時(shí)需要稀釋呢？
來(lái)源:
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作者:pmoe2a7d5
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發(fā)布時(shí)間: 2023-12-26
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光刻膠是否需要稀釋應(yīng)該取決于它的初始黏度、工藝所需厚度、旋涂設(shè)備能力等。一些光刻膠是供應(yīng)商預(yù)先配置的，黏度已經(jīng)調(diào)整至工藝需求，不需要自行稀釋。但是，如果光刻膠的初始黏度太高，超過(guò)工藝需求，那么可能要進(jìn)行稀釋。有時(shí)候，通過(guò)調(diào)整旋涂設(shè)備的參數(shù)無(wú)法得到所需涂層，但又不想更換光刻膠就可以考慮調(diào)整光刻膠粘度。也可考慮在線黏度控制系統(tǒng)，其中包括黏度計(jì)、稀釋系統(tǒng)等。當(dāng)黏度計(jì)測(cè)得的黏度大于設(shè)定黏度時(shí)，稀釋系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)補(bǔ)加相應(yīng)溶劑，直至達(dá)到工藝設(shè)定值時(shí)停止。
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