同時(shí)可噴涂四個(gè)基片，相不污染。自動運(yùn)行完成噴膠工藝。
設(shè)備主要由旋轉(zhuǎn)熱板系統(tǒng)、噴嘴掃描系統(tǒng)、流速控制系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成。
自動QD噴涂機(jī)，主要用于在晶圓表面噴涂甲苯、正己烷、UV液體，設(shè)備腔體密封，注入相應(yīng)壓力流量的氮?dú)猓獨(dú)庑柩h(huán)排放過濾使用。
設(shè)備主要由升降片盒（兩個(gè)片盒平臺）、中間布局機(jī)器人（負(fù)責(zé)晶圓的傳輸）、噴涂單元（配四套膠套－承片臺自動旋轉(zhuǎn)）、清洗單元（CUP自動升降）、自動加液、流速控制系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)、配手氣操箱的檢測部份裝置等組成，整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu)，外表為優(yōu)質(zhì)不銹鋼護(hù)板，工作方式為自動上下片，自動完成噴膠、清洗、傳輸?shù)綑z測區(qū)的工藝。噴涂工藝流程：取片-對中-噴涂-見氧-清洗-排出。
一、片盒介紹
1.片盒單元加有密閉的緩沖腔體，每個(gè)部件都能承受氮?dú)馀c真空的條件，以及可手動打開后，按啟動按鈕完成腔體的排氧及進(jìn)氮功能;
2.組成部份：升降固定板、片盒升降板、導(dǎo)桿、導(dǎo)線桿、電缸片盒板、片盒擋條、擋塊、卡條、按鈕傳感器;
二、機(jī)械手介紹
機(jī)械手單元主要用于在各單元間傳送晶片。采用高精度伺服電機(jī)控制同步帶驅(qū)動機(jī)械手，以滿足機(jī)械手定位精度。保證晶圓對中準(zhǔn)確，不影響工作。機(jī)械手負(fù)責(zé)晶圓傳輸工作，從片盒到噴涂單元，再從噴涂單元到清洗單元，同時(shí)從清洗單元再傳輸?shù)綑z測區(qū)的片盒中，這個(gè)工藝順序是可以根據(jù)工藝菜單編輯；機(jī)械手單元主要用于在各單元間傳送晶片。采用高精度伺服電機(jī)控制同步帶驅(qū)動機(jī)械手，以滿足機(jī)械手定位精度。保證晶圓對中準(zhǔn)確，不影響工作。
三、噴膠單元
（1） 四個(gè)二流體噴頭，四路供液系統(tǒng)，每一路都可以單獨(dú)開啟關(guān)閉，每一路加流量監(jiān)控，磁力流量計(jì)加傳感器。氣路加流量計(jì)與潤濕功能。
（2） 噴頭流量范圍：1～30ml/min，流量在屏幕界面可以自由設(shè)置；
（3） 配置一個(gè)噴涂坐標(biāo)校準(zhǔn)和預(yù)掃描功能（光打點(diǎn)定位輔助設(shè)定噴涂坐標(biāo)）；
（4） 腔體外配置腳踏板開關(guān)：用于手動操作時(shí)噴涂單元真空和腔體排氣的開關(guān)。真空腳踏板為點(diǎn)動開啟，點(diǎn)動關(guān)閉，排氣腳踏板為踩下時(shí)排氣，腳松時(shí)停止排氣；
（5） 調(diào)頻風(fēng)泵和手動調(diào)節(jié)蝶閥控制噴涂作業(yè)時(shí)氣體循環(huán)；
（6） 噴頭霧化N2氣路和其他N2配置為獨(dú)立的廠務(wù)接口；
（7） 腔體外配置排廢閥和廢液桶收集廢液；
四、清洗系統(tǒng)
清洗單元主要用于單片的清洗功能，噴嘴也有加自動升降及旋轉(zhuǎn)功能，同時(shí)CUP實(shí)現(xiàn)升降功能，以便于取放晶圓；液體自動供給，真空吸附基片。CUP有防濺及排液功能，排液留有球閥控制；主軸轉(zhuǎn)速可調(diào)調(diào)控。CUP材料為PP材質(zhì)，同時(shí)液體有排液桶及報(bào)警功能，以便于處理液體。
（1） 二流體扇面噴頭：自動擺動旋轉(zhuǎn)噴液加背洗功能，兩路液體加流量計(jì)。
（2） 旋轉(zhuǎn)電機(jī)：轉(zhuǎn)速要求：0~5000rpm，旋涂步驟、旋涂速度、加速度可自由編輯
（3） 腔體內(nèi)配置手動開啟清洗程序按鈕（帶防誤觸蓋子）
（4） 腔體外配置腳踏板開關(guān)：開關(guān)清洗單元真空的腳踏板開關(guān)，點(diǎn)動開啟，點(diǎn)動關(guān)閉
（5） 腔體外配置排廢閥和廢液桶收集清洗后的廢液（和噴涂單元廢液桶分開）。
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