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愛姆加電子設備

勻膠顯影蝕刻專用設備生產商

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專注成就品質，品質塑造未來！

Focus on the achievement of quality, quality to shape the future！?

超聲波噴霧涂膠機

新開發(fā)設備

市場價:8000000.00

價格:8000000.00

噴霧式涂布機主要用于開發(fā)研究和各種半導體器件（MEMS)和微機 械，超聲的頻率可調；XY速度-旋轉角度-溫度可調
全自動勻膠顯影機

新開發(fā)設備

市場價:1200000.00

價格:1200000.00

設備實現2"-12"晶圓兼容       涂膠、顯影模塊自帶暫停/恢復功能       同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行......
熱板爐 M+HP200

新開發(fā)設備

市場價:0.00

價格:0.00

主要用半導體工藝生產中烘烤晶圓等(如:涂膠/顯影/光刻等工藝之后的烘烤)
冷板熱板一體機

新開發(fā)設備

市場價:0.00

價格:0.00

冷熱板烘烤單元－愛姆加制造 兩個單元也可以分開，同時對尺寸可選配 冷板與熱板指標也可選高溫等要求。
半導體晶圓清洗機

新開發(fā)設備

市場價:0.00

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基本尺寸規(guī)格：4/6/8寸標準晶圓，晶圓厚度80-100um RCW清洗設備的生產 APM1#液去表面顆粒及金屬雜質 HPM2#液去金屬粒子 設排風風壓檢測 控制系統(tǒng)采用PLC控制，可通過通信協(xié)議指令控制 整機元器件通過CE,CCC,或UL認證，性能可靠穩(wěn)定 ......
廢氣處理

新開發(fā)設備

市場價:0.00

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廢氣處理設備生產加工，可以到現場測量定制 處理極別選配 直徑及高度可訂制
小型精密狹縫涂布機

新開發(fā)設備

市場價:0.00

價格:0.00

高精度狹縫式涂布機是在不同剛性或柔性基材上制備涂布工藝的理性選擇。無論是需要進行納米級及亞微米級功能性涂層的涂布試驗還是墨水調試、工藝研究、小規(guī)模制樣研發(fā)等還是大面積涂布制備，狹縫涂布機都能提供高效精準的數據獲取和分析能力。
半自動清洗機

新開發(fā)設備

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